特殊な光源及び受光部を使用することによりSi, GaAs等のウェハーの厚みを非接触で測定できます。
また高いサンプリングレート及び測定レンジの幅が大きくウェハーの加工プロセスをインラインでモニタリングも可能です。
測定原理は分光干渉方式を採用しております。
chrocodile_it
測定用途はSiやGaAsウェハー以外にも
SiC, サファイア等半導体ウェハー厚み測定
フイルム、樹脂、ガラス、液晶ギャップセルの厚み、太陽電池等の厚み測定  にも対応可能です。

最大5chまで同時測定できるインライン用もあります。

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