0926alphany

豊富な経験と高度な熱処理装置技術

2003年設立以来、半導体製造装置のトータル技術サポートを行ってきたアルファニー。

■研究開発・各種熱処理に使える加熱炉

現在では半導体製造分野で培ったエンジニア力で、研究開発・各種熱処理に対応した様々な種類の加熱炉を設計から製造、販売まで一貫したサービスを提供している。

■幅広い真空度・温度範囲の高温真空電気炉

今年の6月に製品化した小型高温真空電気炉(モデルナンバー:α-CF2000シリーズ)は、真空炉のタイプでありながら、雰囲気中での熱処理も可能で、真空と雰囲気炉の各種熱処理を単独だけでなく、連続的に組み合わせた処理を実施することが可能だ。炉体は、上面扉開閉式円筒縦型チャンバーで外周水冷方式。到達真空度0.00001Pa以下、最高温度2000℃まで1時間以内と昇降温スピードも極めてはやく、短時間での実験結果が得られる。

高真空電気炉の特長
  • 高温領域での処理と短い到達真空時間
  • 短い昇温時間、降温時間
  • クリーンな処理環境
  • 全自動による熱処理コントロール

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